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erstmal die margen im 40nm Prozess ausreiszen!

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  1. erstmal die margen im 40nm Prozess ausreiszen!

    Autor: antares 14.04.10 - 10:17

    Macht doch keinen Sinn, wenn man das vorgängerverfahren noch nicht mal halbwegs effizient beherrscht, schon auf den nächsten zug aufzuspringen!

  2. Re: erstmal die margen im 40nm Prozess ausreiszen!

    Autor: Neutronium 14.04.10 - 10:23

    Das wahr auch mein erster Gedanke. Allerdings kann man wohl davon ausgehen, dass die neuen Prozesse (28nm soll ja auch noch anlaufen und dann 20nm ab 2012) wenigstens teilweise auf neuen Maschinen stattfinden, was dann evt. auch bedeutet, dass sie besser funktionieren.

  3. Re: erstmal die margen im 40nm Prozess ausreiszen!

    Autor: Abseus 14.04.10 - 10:47

    die finden nich auf neuen statt, außer man entschließt sich bis dahin auf 400mm wafer umzusteigen. ansonsten gibts nur nen upgrade an bestehenden maschienen. selbst bei uv-prozessen wurden bestehende maschinen nur mit nem upgrade versorgt.

  4. Re: erstmal die margen im 40nm Prozess ausreiszen!

    Autor: reader adobe 14.04.10 - 11:05

    Da gibts so viele Prozess-Schritte. Da wird viel weiterbenutzt, aber die Belichter und andere Dinge möglicherweise upgegraded oder neue dazugestellt.
    Vermute ich einfach mal.

    Das ist ja keine Brötchen-Fabrik mit Fliessband.

  5. Re: erstmal die margen im 40nm Prozess ausreiszen!

    Autor: Abseus 14.04.10 - 11:13

    reader adobe schrieb:
    --------------------------------------------------------------------------------
    > Da gibts so viele Prozess-Schritte. Da wird viel weiterbenutzt, aber die
    > Belichter und andere Dinge möglicherweise upgegraded oder neue
    > dazugestellt.
    > Vermute ich einfach mal.
    >
    > Das ist ja keine Brötchen-Fabrik mit Fliessband.


    doch die sind sehr wohl mit fließband. zumindest mit was ähnlichem.
    und genau da is das problem...der prozessfluss...da kannst nich einfach für monate nen paar tools rausnehmen.

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