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Ultraviolette Strahlung

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  1. Ultraviolette Strahlung

    Autor: the_Triple 21.01.16 - 13:16

    Im Artikel ist die ganze Zeit die Rede davon, dass erst mit dem neuen EUV-Verfahren UV-Strahlung zur Belichtung eingesetzt wird. Dies ist falsch.
    Bereits die aktuelle Immersionslithographie verwendet Strahlung aus einem Excimerlaser bei 193nm zur Belichtung. Diese Wellenlänge liegt schon sehr weit im UV-Bereich, der, je nach Definition, irgendwo um die 450nm beginnt (je kürzer die Wellenlänge, desto größer die Energie).
    Bei der EUV-Lithographie sollen neue Strahlungsquellen zum Einsatz kommen die von den Wellenlängen her schon fast zu weicher Röntgenstrahlung gerechnet werden können, daher auch der Name Extrem-UV.

    Beste Grüße.

  2. Re: Ultraviolette Strahlung

    Autor: ms (Golem.de) 21.01.16 - 13:37

    Da fehlt das Wort "extreme" vor ultra-violett, danke. EUV arbeitet mit 13,5 statt 193 nm - was wie erwähnt der Grenze von weicher Röntgenstrahlung liegt.

    Marc Sauter, Sr Editor
    Golem.de

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