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Infineon meldet Durchbruch bei Nanotechnologie

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  1. Infineon meldet Durchbruch bei Nanotechnologie

    Autor: Golem.de 27.05.03 - 11:16

    Einem Infineon-Forscherteam soll die Schrumpfung von so genannten Diffusions-Barrieren bzw. Sperrschichten in den Bereichen von Nanotechnologie-Strukturen gelungen sein, die benötigt werden, um die Integrität von Chipleitungen sicherzustellen. Die Forschungsergebnisse würden belegen, dass es möglich sei, ultradünne Diffusions-Sperrschichten zu fertigen, die zur Sicherstellung der Chipfunktionalität von der International Roadmap for Semiconductors (ITRS) bis 2016 gefordert werden.

    https://www.golem.de/0305/25683.html

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